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鈦顆粒_高純ta0鈦顆粒 3*3鈦*6鈦粒10mm鈦立方體

來源:張慧慧|

發表時間:2020-11-30

點擊:6184

鈦顆粒_高純ta0鈦顆粒 3*3鈦*6鈦粒10mm鈦立方體

蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝化合物靶材。
常用參數:
靶材純度:99.99%
制備工藝:熱等靜壓、常溫燒結等
靶材形態:平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶
圓靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
綁定服務:陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務,提高陶瓷靶材導電導熱性,提高使用效率
包裝方式:真空包裝
化學式 品名 純度(%) 致密度 品牌 適用設備
BN 氮化硼 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
AlN 氮化鋁 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
Si3N4 氮化硅 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
TiN 氮化鈦 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
TaN 氮化鉭 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
ZnS 硫化鋅 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
CdS 硫化鎘 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
MoS2 二硫化鉬 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
SnS2 二硫化錫 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
WS2 二硫化鎢 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
B4C 碳化硼 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
HfC 碳化鉿 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
WC 碳化鎢 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
Mo2C 碳化鉬 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
AlB2 硼化鋁 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
TiC 碳化鈦 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
BC 碳化硼 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
SiC 碳化硅 靶材 2N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LiTiO3 鈦酸鋰 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LiTaO3 鉭酸鋰 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
GST225 鍺銻碲 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
Sb2S3 硫化銻 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
In2Se3 硒化銦 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
InSe 硒化銦 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LiTiO3 鈦酸鋰 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LiTaO3 鉭酸鋰 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LiCoO2 鈷酸鋰 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
SrTiO3 鈦酸鍶 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
BaTiO3 鈦酸鋇 靶材 3N5 >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
Li0.35La0.57TiO3 鈦酸鑭鋰 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
(Ca10(PO4)6(OH)2) 羥基磷灰石 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
Y3Fe5O12 YIG 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
LaF3 氟化鑭 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
NaF 氟化鈉 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
CaF2 氟化鈣 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
BaF2 氟化鋇 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
MgF2 氟化鎂 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
KF 氟化鉀 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
CeF3 氟化鈰 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
SrF3 氟化鍶 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
NdF3 氟化釹 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
DyF3 氟化鏑 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
SmF3 氟化釤 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
YbF3 氟化鐿 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
YF3 氟化釔 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
ErF3 氟化餌 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備
ZnSe 硒化鋅 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控濺射設備

鈦顆粒_高純ta0鈦顆粒 3*3鈦*6鈦粒10mm鈦立方體

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